真空離子鍍膜PVD

(先進薄膜)   

 

鍍膜的原理說明

PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩寫，中文為"物理"氣相沉積。

真空鍍膜技術是近年來由航太科技轉移入產業的新興科技，也當前國際上廣泛應用且先進的表面處理技術，無汙染的環保型表面處理方法。

其原理是指在真空狀態下，用氣體放電，使被蒸物與氣體產生電離流的電弧放電技衡，利用電子的加速作用，使材料沉積在被鍍工件上的薄膜製作技術。